Kinh doanh phát triển kèo nhà cái

• Microfabrication (Etching ion phản ứng: RIE) Thiết bị nghiên cứu và kèo nhà cái

• 4861_4906
• Một dòng kèo nhà cái "TEP-01X, loại tiêu chuẩn cho R & D, có thể được sử dụng cho các thiết bị, từ nghiên cứu và phát triển và xử lý nguyên mẫu đến sản xuất quy mô nhỏ và mô hình giá thấp cho R & D, loại máy tính để bàn cho R & D

• kèo nhà cái bị vận chuyển Wafer (khóa) cho thông số kỹ thuật chân không

• Có thể tháo wafer ra khỏi hộp đựng băng tải trong khi chặn hoàn toàn nó khỏi không khí bên ngoài và các hạt mịn, sau đó tải wafer vào và ra khỏi kèo nhà cái bị chân không
• kèo nhà cái kế nhỏ gọn với tiền đình tích hợp, robot vận chuyển wafer, bơm chân không, máy đo chân không và bộ điều khiển trong không gian W267.5 x D114 x H378 (mm)

fab tối thiểu
Một hệ thống sản xuất chất bán dẫn quy mô nhỏ đa kèo nhà cái mang tính cách mạng với mục đích hình thành nhà máy sản xuất chất bán dẫn ở quy mô rất nhỏ

• Thiết bị tạo chùm ion đa tích điện để nghiên cứu và kèo nhà cái

• Nguồn ion ECR nhỏ gọn với sự kết hợp của các điện cực gương và nam châm vĩnh cửu
• Các ion đa tích điện có thể được tạo ra bằng cách giam cầm hiệu quả cao của các hạt tích điện bằng cách sử dụng từ trường
• Một số lò vi sóng trong các dải tần số khác nhau (2,45GHz/4 đến 6GHz) có thể được đặt chồng lên để tạo ra huyết tương mật độ cao trong phạm vi áp suất thấp
• Tạo ra các chùm ion đa tính năng

• Phân tích vật liệu, vi mô sử dụng chùm ion
• Nghiên cứu và kèo nhà cái vật liệu lai kim loại-carbon (Fullerenes được đóng gói bằng kim loại)

• kèo nhà cái bị lắng đọng chân không cao-nóng lên

• 8250_8297
• lắng đọng đa lớp bằng cách sử dụng nguồn bay hơi chuyển mạch ba điểm
• Có thể được chọn làm buồng thủy tinh Berja/Sus
• Phòng Sus sử dụng cửa đầy đủ kiểu nở có hiệu quả cao
• ​​Một loạt các cơ chế có thể được tùy chỉnh cho phù hợp với nhu cầu của bạn, chẳng hạn như hệ thống sưởi bảng, xoay bảng và súng EB

• Phim lắng đọng hơi của các màng mỏng kim loại khác nhau

• kèo nhà cái bị sửa đổi bề mặt plasma cho bảng mạch in

• 9359_9393
• Phương pháp ức chế sưởi ấm huyết tương Sử dụng từ trường cho phép sửa đổi bề mặt mà không bị tổn thương nhiệt
• Xử lý tốc độ cao là có thể bằng cách tạo plasma đồng nhất trong một không gian hẹp (khả năng xử lý: 60 tấm/h)
• Xử lý đồng thời cả hai mặt của bảng có thể được thực hiện

• Thiết bị kèo nhà cái xuất hạt nano kim loại được sưởi bằng điện trở

• Thiết bị kèo nhà cái xuất hạt nano kim loại sử dụng lắng đọng chân không liên tục của bề mặt chất lỏng hoạt động
• hạt nano kim loại được kèo nhà cái xuất
• Làm bằng các hạt nano kim loại có kích thước nano đơn

• Một kèo nhà cái bị tạo ra plasma không cân bằng trong khí quyển

• Nhiều loài hoạt động có thể được tạo ra bằng cách sử dụng nguồn năng lượng đặc biệt

• Sửa đổi bề mặt, v.v.

• kèo nhà cái bị đo gen sử dụng độ đục và huỳnh quang

• Độ đục và huỳnh quang có thể được đo liên tục trong một đơn vị

• R & D và sử dụng thuốc thử kèo nhà cái hiện độ đục và huỳnh quang

• kèo nhà cái bị đo gen sử dụng độ đục

• Không cần kết nối với PC và có thể được kiểm tra hoạt động và kết quả

• R & D và sử dụng thuốc thử kèo nhà cái hiện độ đục